• 垂轴色差的原理、分析与全流程优化技术

    在光学成像系统中，垂轴色差作为影响边缘画质的关键像差，其对广角镜头、鱼眼镜头等大视场光学设备的成像质量制约尤为显著。本文系统梳理垂轴色差的核心概念、成像特征与术语界定，详解ZEMAX软件中垂轴色差图的解读方法，从光学设计与后期处理两个维度提出可落地的优化方案，为光学工程师的设计工作与摄影爱好者的画质提升提供专业参考，最终实现“根源控制+残留弥补”的全链条色差优化目标。

    넶0 2025-12-16

  • 光学镜头精密制造的核心支柱：光心管控与AA工艺的协同演进

    在光学镜头制造领域，精度是决定产品性能的核心要素，而光心管控与AA（ActiveAlignment，主动对准）工艺作为精密制造的关键环节，直接影响镜头的解析力、畸变控制等核心光学性能。从镜头光心的精准校准到AA相机模组设备的迭代优化，二者的协同发展构成了光学镜头从“可用”向“好用”再到“极致”跨越的技术基石，为车载光学、工业检测、高端安防等关键领域提供了核心支撑。

    넶0 2025-12-16

  • 光学分辨率的极限探索与技术提升路径

    光学成像是现代科学研究、工业制造及精密观测领域的核心支撑技术，其分辨率水平直接决定了人类探索微观世界的深度与精度。“光学分辨率是否存在极限”这一命题，不仅是光学领域的基础理论课题，更深刻影响着相关技术的发展方向。本文基于光学成像的核心原理，系统梳理光学分辨率的极限边界、理论依据及提升路径。

    넶1 2025-12-16

  • 镜头色差成因及校正技术解析：ED镜片与APO复消色差系统

    在光学成像领域，色差是影响镜头成像质量的核心问题之一。尤其是在长焦拍摄、广角边缘成像或逆光、大光比等复杂场景下，画面中出现的紫边、绿边等色边现象，以及颜色浸润、边缘模糊等问题，本质上均为色差（ChromaticAberration，简称CA）导致的成像偏差。本文将系统解析色差的物理本质、产生机制，深入探讨普通镜片组合、ED镜片及APO复消色差三种校正方案的技术原理与优劣特性，并澄清行业内关于APO镜头与锐度的认知误区。

    넶3 2025-12-15

  • 无干涉机制赋能宽带片上角动量复用：150纳米带宽芯片技术实现

    在信息技术向超高容量、微型化方向持续演进的当下，光的角动量复用技术凭借其物理正交特性，已成为破解数据传输与存储领域性能瓶颈的关键技术路径。然而，传统基于干涉法的探测方案受限于器件体积与带宽特性，难以满足芯片级集成应用的核心需求。近日，一项发表于《Science》的研究提出了无干涉角动量复用创新方案，通过设计新型纳米环孔径结构，成功实现150纳米带宽的片上并行复用，为微型化纳米光子器件的研发与应用开辟了全新路径。

    넶0 2025-12-15

  • 多组间隔镜片镜头的定心装配与空气间隔控制技术

    在精密光学镜头（如安防监控镜头、工业检测镜头、高端成像镜头等）中，多组带空气间隔的镜片是实现高清成像的核心结构。镜片光轴的同轴度与空气间隔的精准度直接决定镜头的分辨率、像差校正效果等关键指标——若光轴偏移，会导致成像模糊、畸变；若空气间隔偏离设计值，则会破坏光学系统的共轭关系，影响画质还原。针对这类镜头，数控定心车削技术结合闭环反馈装配体系，已成为实现高精度定心装配与空气间隔控制的主流方案。

    넶3 2025-12-15

  • 放大的自发辐射（ASE）与受激辐射的核心机制及差异解析

    在量子电子学与激光物理领域，光辐射机制的特性直接决定了光学器件的性能与应用场景。放大的自发辐射（Amplified Spontaneous Emission,ASE）作为介于自发辐射与受激辐射之间的关键光放大过程，其物理本质与两类基础辐射机制的差异，是理解光电子技术原理的核心前提。本文基于量子光学基本理论，系统梳理三者的物理机制、形成过程及核心差异，为相关领域的理论研究与技术应用提供参考。

    넶7 2025-12-15

  • 【前沿资讯】无引导星自适应光学技术（CAO）的原理创新、技术突破与应用前景

    北京师范大学与澳门大学的研究团队联合研发了相关自适应光学（Correlative Adaptive Optics,CAO）技术——一种基于对称性破缺原理的无引导星、无标记波前校正方案。该研究成果已正式发表于光学期刊领域权威期刊《APLPhotonics》（中科院1区，影响因子5.4），为自适应光学技术的场景拓展提供了全新路径。

    넶4 2025-12-12
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