CODE V 视角下的光学孔径与渐晕解析
在光学系统中，孔径和渐晕是两个至关重要的概念。孔径，即光线可通过的表面相关开口，其中限制轴上视场光线通过的表面被定义为“孔径光阑”。而渐晕，则是指光阑以外的清晰孔径阻挡光线的现象，有时被故意用来改善镜头的离轴性能。
以专业光学软件CODEV为例，每个视场点有四个渐晕因子，这些渐晕因子用于模拟清晰孔径剪裁光束和光瞳像差，并且是应用于入瞳的。在输入镜头处方信息时，CODEV能够根据清晰孔径设置渐晕因子，反之亦然。
我们可以通过CODEV专利镜头数据库中的US1,987,878（或02448）这个例子来更好地理解孔径与渐晕。该镜头专利文件未包括清晰孔径或渐晕信息，然而在加载时离轴视场却有非零渐晕信息。这些值是对减少像差并使镜头边缘厚度合理所需离轴渐晕的估计。当应用估计渐晕因子后，离轴光线、像差和点尺寸等都有了明显改善。同时，CODEV会根据光瞳和渐晕因子自动计算隐含清晰孔径。实际渐晕因子与近似渐晕因子接近，这表明系统像差和成像性能大致保持不变。
通过定义近似渐晕因子可以快速确定镜头系统的大致情况。而当实际孔径和渐晕值定义后，CODEV能够自动优化和调整镜头系统，使其达到最优性能。在光学设计和研究中，深入理解孔径和渐晕的概念以及善用像CODEV这样的专业软件，对于提升光学系统的性能至关重要。
-
激光损伤阈值（LIDT）测试技术：ISO 21254标准解读与工程实践
高功率激光系统中的光学元件，承受着每平方厘米数焦耳至数千焦耳的能量密度。一片反射镜的膜层在若干次脉冲后出现针孔——系统功率被迫降级，甚至整机返修。激光诱导损伤阈值（LIDT）是决定光学元件"能承受多强的光而不坏"的核心参数。本文从损伤机理、ISO 21254标准测试方法和工程选型三个维度，系统介绍LIDT测试的技术体系。
2026-07-07
-
DUV vs EUV光刻物镜装调：两种技术路线的精度博弈
DUV 和 EUV，两代光刻技术的核心光学系统，分别在 193nm 和 13.5nm 波长下工作。它们的装调精度要求相差的不是百分比，而是数量级。更关键的是，它们的装调方法论本身就是两套完全不同的逻辑。
2026-07-07
-
OptiCentric® Bonding 胶合装调系统，从"手感对准"到"算法锁定"
手动胶合时代，师傅的手感是精度上限——推到位靠经验，固化漂移靠运气，量产一致性靠祈祷。Bonding系统把这三件事交给算法：SmartAlign定义正确的轴、算法驱动精确的调整、梯度固化锁住精确的结果。
2026-07-07
-
精密光学检测实验室建设指南：从环境控制到设备布局的工程实践
一台精度λ/50的干涉仪放在一间没有温控的普通房间里，实测精度可能退化到λ/10以下。精密光学检测设备不是"买来就能用"的——它们的精度发挥严重依赖环境条件。本文从温度、湿度、振动、洁净度和设备布局五个维度，系统梳理精密光学检测实验室的建设要求和工程实践，为光学制造企业在规划检测实验室时提供可参考的技术框架。
2026-07-06
-
红外热像仪镜头选型指南：短焦、中焦与长焦的参数原理及场景适配
在红外热像仪的选型过程中，用户通常优先关注探测器分辨率参数，如384×288、640×512、1280×1024等指标。但在实际应用场景中，镜头焦距的适配性往往直接决定最终观测效果：同一台640×512分辨率的热像仪，搭配短焦镜头可实现大范围场景覆盖，但远距离小目标仅能占据少量像素；搭配长焦镜头可放大远处目标细节，但视场范围大幅收窄，搜索效率下降；中焦镜头虽兼顾二者特性，却未必适配所有特定场景。
2026-07-06
