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调制传递函数—MTF的原理是什么？
在光学领域，调制传递函数（MTF）是衡量光学系统性能的关键参数之一。它不仅能够反映光学系统的成像质量，还能指导光学设计和优化。本文将深入探讨调制传递函数的原理，以及如何通过不同的方法来测试和评估MTF。
넶688 2024-04-30
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激光直写光刻技术工艺流程及应用研究
激光直写光刻技术（LaserDirectWritingLithography,LDWL）是微纳加工领域核心的无掩模光刻技术，依托激光与光刻胶的光化学反应，通过精准调控曝光剂量等工艺参数，可在光刻胶上实现亚微米精度的任意三维结构定制。该技术并非单一工艺环节，而是一套以激光直写光刻为核心的系统性工艺体系，涵盖衬底表面处理、光刻胶涂布、前烘烤、曝光、显影、后烘烤六大关键工序，各工序的参数控制相互关联、层层影响，直接决定最终制备图案的形态、精度与性能。同时，该技术兼具高空间分辨率、操作流程简便、成型效率高的技术优势，已成为集成光电子学、微电子学等领域的重要加工手段，现就其工艺原理、完整流程、关键要素及技术应用展开系统阐述。
넶0 2026-03-03 -
全欧TRIOPTICS中心偏差测量仪核心测量参数解析
在光学元件及镜组的检测与装调环节，中心偏差测量仪（偏心仪、定心仪）是评估光学系统光轴一致性的关键设备，全欧TRIOPTICSOptiCentric系列作为行业常用设备，其测量结果中shift（偏移）、tilt（倾斜）等核心参数的定义与解读，直接影响光学设计、装调的准确性。由于该设备对核心参数的定义与常规认知存在差异，准确理解其物理意义、掌握数据解读方法，是保障光学检测与设计匹配的重要前提。本文将围绕该设备核心测量参数定义、与光学设计软件的关联、异常数据解读及合理的结果查看方法展开解析，为光学行业相关从业者提供参考。
넶0 2026-03-03 -
受激辐射耗尽显微成像（STED）技术的原理、应用与发展
受激辐射耗尽显微成像（StimulatedEmissionDepletionMicroscopy,STED）是一种突破光学衍射极限的超分辨显微技术，其以光物理过程直接调控荧光分子发光区域的独特机制，实现了纳米尺度的实时超分辨成像，区别于依赖计算重建或单分子定位的同类技术，成为微观结构研究领域的重要技术手段，在生命科学等学科研究中发挥着关键作用。本文将从技术核心原理、光路设计与分辨率特性、应用场景与技术优势、现存局限性与改进策略、技术定位与发展趋势五个方面，对STED技术进行系统探析。
넶0 2026-03-03 -
激光扩束的原理、结构设计及工程应用规范
激光凭借高能量、高准直性的核心特性，成为工业加工、科学研究、精密检测等领域的核心光源，而激光扩束技术是保障激光在各类场景中高效、稳定应用的关键支撑。该技术并非简单的光束尺寸放大，而是基于高斯光束光学特性的精准调控，其设计、调试与选型均需遵循严谨的光学规律和工程规范。本文从激光扩束的核心原理出发，解析两类经典光学结构的设计特点与适用场景，梳理工程实践中的关键控制要点，并明确扩束镜选型的核心参数，形成一套逻辑完整的激光扩束技术应用体系。
넶0 2026-03-03
