光学计算的突破:新型光子存储器实现多属性优化
在人工智能和高性能计算领域,光子存储器因其高速和低能耗的潜力而备受关注。然而,传统的光子存储器往往在速度、能耗、非易失性和耐久性之间难以取得平衡。现在,一个国际研究团队在这一领域取得了重大突破,开发出了一种能够在单个平台上结合多个关键属性的新型光学存储器。

研究团队与成果
由匹兹堡大学斯旺森工程学院、加州大学圣巴巴拉分校(UCSantaBarbara)、卡利亚里大学和东京科学研究所的研究人员组成的团队,展示了一种新型光学存储器,它集成了非易失性、多位存储、高切换速度、低切换能量和高耐久性。这一成果不仅在理论上具有创新性,而且在实际应用中具有极高的价值。
技术突破与材料使用
该团队利用已有几十年历史的材料,这些材料之前主要用于静态光学应用,而非高性能光子存储器。匹兹堡大学电气与计算机工程助理教授NathanYoungblood表示:“我们在开发这些单元时使用的材料已经存在了几十年。然而,它们主要用于静态光学应用,例如片上隔离器,而不是高性能光子存储器的平台。”
关键发现与技术优势
这一发现是实现更快、更高效、更光学的计算架构的关键技术,该架构可以直接用CMOS电路编程,从而与传统计算机技术兼容。Youngblood还提到:“此外,我们的技术比其他非易失性方法的耐久性高出三个数量级,具有24亿次开关周期和纳秒速度。”

技术细节与控制机制
研究人员提出了一种基于共振的光子架构,利用磁光材料中的非互易相移来实现光子内存计算。加州大学圣巴巴拉分校实验工作的负责人PauloPintus解释说:“这就像风吹向一名短跑运动员,同时帮助另一名短跑运动员跑得更快。通过对存储单元施加磁场,我们可以根据光在环形谐振器周围顺时针或逆时针流动来控制光速。这提供了更传统的非磁性材料无法实现的额外控制水平。”
未来展望与扩展应用
该团队目前正在努力将单个存储单元扩展到大型存储阵列,以支持更多用于计算应用的数据。非互易磁光存储单元提供了一种高效的非易失性存储解决方案,可以在亚纳秒编程速度下提供无限的读/写耐久性。东京科学研究所副教授YuyaShoji表示:“我们还相信,这项技术的未来发展可以利用不同的效应来提高开关效率,而使用除Ce:YIG以外的材料的新制造技术和更精确的沉积可以进一步提升非互易光学计算的潜力。”
这项在《自然光子学》上发表的研究,不仅展示了光学存储器技术的重大进步,也为未来的光学计算架构提供了新的可能性。随着技术的进一步发展和应用,我们有望看到更快速、更节能的计算解决方案,这将对人工智能、大数据处理和高性能计算产生深远影响。
-
光学冷加工全流程:从毛坯到精密镜片的制造工艺
一片直径50mm的精密球面透镜,从一块粗糙的玻璃毛坯到面形精度λ/10、表面粗糙度Ra<1nm的成品,需要经历十余道工序。每一道工序都有特定的设备、工艺参数和检测标准,任何环节的失控都会在最终元件上留下不可逆的缺陷。本文系统梳理光学冷加工从铣磨、精磨、抛光到定心磨边的完整工艺流程,为光学制造从业者提供⼀份全景式的工艺参考。
2026-07-09
-
OptiCentric® IR — 红外镜头定心装调:从 3.39μm 到 10.5μm,让红外光学"对得齐、装得稳"
红外镜头、夜视系统、热成像模组……这些设备里跑的,可能是 3μm、5μm,甚至 10μm 量级的光波。面对这种波段,常规可见光定心仪压根看不到信号——镜片要么把光吃掉了,要么把光反射走了,自准直仪的 CCD 上只剩一片漆黑。OptiCentric® IR 红外偏心仪就是为了解决"看不见"这个根本问题而生的。
2026-07-09
-
精密光学装配技术:从单透镜到系统的装调方法与精度控制
一片面形精度λ/20、偏心<0.2μm的完美透镜,装入镜筒后,如果装配误差为5μm——系统MTF劣化可能超过自身光学设计的允差。精密光学装配不是简单的"把镜片放进去拧紧",而是一项以微米为单位的系统工程。本文从装调基准选择、胶合/压装/螺纹装配三种方式、以及装调过程中的在线检测三个维度,系统介绍精密光学的装配技术。
2026-07-09
-
光学薄膜膜系设计基础:增透膜、反射膜与分光膜的原理与工程选择
一片未经镀膜的冕牌玻璃表面,仅因菲涅耳反射就会损失约4%的入射光。经过6~8片镜片的镜头,累积光损失可达25%~35%。光学薄膜的核心任务,就是通过精确控制纳米级厚度的介质膜层,将光的反射、透射和吸收特性调节到设计目标。本文从薄膜光学的基本原理出发,系统介绍增透膜、高反射膜和分光膜三类最常用膜系的设计思路和工程考量。
2026-07-08
-
光学元件精密清洁与维护:从实验室到产线的操作规范
一颗直径5μm的灰尘颗粒,落在干涉仪参考面上,产生的散射信号足以让λ/50的精度退化到λ/10。在精密光学领域,清洁不是"擦干净就行"的保洁工作——它是保护光学表面和测量精度的一道严谨工序。本文从污染物类型、清洁剂选择、操作手法和设备维护四个维度,系统梳理光学元件的精密清洁规范。
2026-07-08
