欧光科技将携多款先进产品亮相无锡第十二届半导体设备与核心部件展会
备受瞩目的无锡第十二届半导体设备与核心部件展会将于九月份盛大举行。作为光学领域的领军企业，欧光科技宣布将携多款先进产品亮相无锡第十二届半导体设备与核心部件展会!
欧光科技是一家在光学测量与加工领域具有卓越实力和深厚技术积累的企业。一直以来，欧光科技致力于为行业提供最先进的光学解决方案。凭借专业的研发团队、优质的服务态度和严格的质量控制体系，欧光科技的产品在国内外市场上赢得了广泛的赞誉和认可。
此次欧光科技参展的产品阵容强大，其中包括研发型高精度光学传递函数测量仪ImageMaster®Universal。该产品由德国TRIOPTICSGmbH精心设计，在宽光谱范围内可对几乎所有类型系统进行光学参数测量，测量精度可溯源至国际标准。其卧式结构与全自动测量设计便捷高效，平行光管覆盖全波段，铝质外壳尽显高端品质。模块化设计方便运输与维护，靶标发生器及探测器可快速切换，能精准测量众多光学参数。
还有大口径中心偏差测量仪OptiCentric®UP，这是德国全欧光学为大口径高负载光学系统的中心偏差测量及装配研发的专用设备，多种型号适应不同规格样品，测量精度高，范围广。
全自动内调焦电子自准直仪（装调望远镜）TriAngleD-275-AAT-WW也备受关注。具备多种工作方式，可同时测量多个反射像，操作软件强大且人性化，测量结果便于储存读取，广泛应用于多个领域。
此外，ATS-C全自动数控定心车床（卧式）优化了小尺寸镜片安装周期，自由设计加工形式，操作直观，为高精度加工提供解决方案。
欧光科技一直致力于提供优质光学测量与加工产品，此次参展，期待与行业人士共同探讨光学技术在半导体行业的应用与发展，为推动行业进步贡献力量。
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多基准轴透射式离轴光学系统高精度定心装调方法
星载光谱仪可获取空间连续分布的光谱数据，是陆地植被监测、海洋环境探测等领域的核心载荷。为校正分光系统引入的畸变，星载光谱仪成像透镜多采用离轴透射式设计，由此形成的多光轴结构存在大倾角、大偏心特征，超出了传统同轴系统定心装调方法的适用范围。本文提出一种多基准轴定心装调方法（Multi-referenceAxisAlignment,MAA），通过镜筒结构一体化加工预置各光轴的偏心与倾斜参数，结合光学平板实现基准轴的高精度引出，将复杂多光轴系统的装调拆解为多个单光轴子系统的独立装调，突破了传统定心仪的测量范围限制。针对某星载光谱仪3光轴离轴透射系统开展装调验证，实测结果表明，透镜最大偏心误差小于25.4μm，最大倾斜误差小于17.7″，系统实际畸变与理论值平均偏差小于0.32μm，全面满足设计指标要求。该方法为离轴折射类光学系统的高精度装调提供了可行的技术路径，拓展了透射式光学系统装调的适用边界。
2026-05-22
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平凸透镜朝向对光束会聚效果及像差特性的影响分析
平凸透镜是各类光学系统中应用最为广泛的基础折射元件之一，属于典型的无限共轭透镜，核心光学功能分为两类：一是将点光源出射的发散光束准直为平行光束，二是将入射的准直平行光束会聚至单点。在激光光学、显微成像、光电检测等领域的光路设计与装调中，平凸透镜的安装朝向是直接影响系统性能的核心参数，其选择直接决定了像差水平与最终会聚效果。
2026-05-21
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光机系统设计：镜头装配轴向预紧力计算（一）——通用设计原则与基础方法
本文基于光机系统设计领域的经典工程理论，系统阐述镜头装配中透镜面接触安装技术的核心原理，明确轴向预紧力在透镜固定、精度保持与环境适应性中的关键作用，详细介绍标称轴向预紧力的基础计算方法、参数定义与适用边界，同时解析轴向预载对透镜自动定心、抗径向偏心的力学效应，为光学镜头的装调设计提供标准化的工程参考。
2026-05-21
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高精度轴对称非球面反射镜面形轮廓非接触式测量方法
非球面光学元件是高端光学系统的核心器件，其面形轮廓的高精度、可溯源测量是保障加工质量与系统性能的关键。本文针对轴对称非球面反射镜的测量需求，建立了通用化的非球面扫描轨迹数学模型，提出一种基于独立计量回路的非接触式坐标扫描测量方法。该方法采用运动与计量分离的框架结构，有效隔离运动误差对测量结果的影响；测头采用集成阵列式波片的四象限干涉测量系统，实现1nm级测量分辨率；通过扫描执行机构与多路激光干涉系统共基准设计，实现测量值可溯源至“米”定义。试验验证表明，该方法测量误差小于0.2μm，重复性精度达70nm，整体测量精度达到亚微米级，为非球面测量的量值统一与溯源提供了成熟的技术方案。
2026-05-21
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麻省理工学院固态激光雷达硅光子芯片核心突破解读
麻省理工学院研究团队攻克了硅光子集成光学相控阵（OPA）固态激光雷达的长期核心瓶颈，通过创新的低串扰集成天线阵列设计，首次实现了宽视野扫描+低噪声高精度的无活动部件激光雷达芯片，为下一代紧凑、高耐用性固态激光雷达的落地奠定了技术基础。
2026-05-20
