Mach–Zehnder干涉仪及其变形的原理
Mach–Zehnder干涉仪的基本原理在于通过巧妙的光路设计，将一束光分成两束，经过不同的路径后再重新汇合，从而产生干涉现象。这一现象为我们提供了一种精确测量光的特性以及相关物理量的方法。
然而，其魅力不仅在于原始的设计，更在于不断演变出的多种变形。其中一种变形在测试斜入射反射中的平面表面方面展现出了出色的能力。通过这种变形，我们能够更加精准地分析平面表面在斜入射情况下的反射特性，为相关的光学研究和应用提供了宝贵的数据支持。
另一种变形则是Jamin干涉仪。这种干涉仪将分束器和折叠镜组合成一个元件，形成了一种独特的结构。这一设计使得该装置具备了显著的优势，它非常坚固，能够在复杂的环境中保持稳定的性能。尤其值得一提的是，当引入元件的分离、偏心或小倾斜时，参考臂和测试臂会经历几乎相同的变化。这一特性使得Jamin干涉仪对元件的机械漂移不敏感，从而大大提高了测量的准确性和可靠性。
这些变形的出现并非偶然，而是科学家们不断探索和创新的结果。它们来源于《Handbook of Optical Systems, Volume 5 Metrology of Optical Components and Systems》《光学量测 81》《Handbook of Optical Systems 3》《光学量测·目录 #光学量测》等专业著作中的深入研究和实践积累。
在当今的科学研究和技术应用中，Mach–Zehnder干涉仪及其变形发挥着越来越重要的作用。无论是在光学元件的质量检测，还是在探索新的物理现象和光学原理方面，它们都为我们打开了一扇扇通向未知世界的窗户。
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超高NA光刻投影物镜高阶波像差检测方法
在极大规模集成电路制造领域，光刻机是核心装备，而投影物镜作为光刻机的关键分系统，其波像差直接影响光刻套刻精度与成像分辨率。随着光刻技术从干式向浸没式演进，投影物镜数值孔径（NA）已提升至1.35，高阶波像差（主要为Z₃₈~Z₆₄）的影响愈发显著，对其进行快速、高精度检测成为保障掩模图形高保真度转移至硅片的关键。本文提出一种基于八角度孤立空检测标记的超高NA光刻投影物镜高阶波像差检测方法，有效解决了传统检测技术的局限，实现了高阶波像差的高精度检测。
2026-05-14
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从美学感知到工程量化：Bokeh焦外成像的科学解析与测量实践
Bokeh（源自日语“ボケ”，意为“模糊”或“晕化”）作为摄影领域中描述焦外虚化美学质量的专业术语，长期以来被赋予强烈的主观审美属性。然而，随着光学工程技术的发展，这一原本依赖经验判断的“玄学”概念，已通过点扩散函数（PSF）的测量与分析，转化为可量化、可重复的客观工程指标。本文结合摄影理论、光学工程手册及专业测量工具应用实践，系统阐述Bokeh的本质内涵、评价维度、测量方法及影响因素，为光学设计、镜头研发、质量控制及摄影爱好者提供兼具理论性与实用性的参考依据。
2026-05-14
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U型红外双反射镜折转光学系统MTF精准测量与装调矫正技术研究
针对U型红外双反射镜折转光学系统因结构布局限制，无法采用常规光学传递函数测试仪直接开展MTF检测的行业技术难题，本文提出一种基于中继镜组光瞳衔接的组合式MTF测量方法。通过设计近衍射极限红外中继镜组，实现被测系统像面引出与光路匹配，依托线性非相干光学系统传递函数乘积特性，分离解算得到被测折转光学系统真实MTF性能；同时结合偏心偏差检测手段，建立MTF异常溯源与精密装调矫正流程。实验结果表明，该测量方案数据重复性优异，可精准识别光学元件偏心装配缺陷，经装调矫正后系统MTF指标可回归合格标准，能够满足红外折转光学系统批量生产的性能检测与质量管控需求。
2026-05-13
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ZEMAX光学仿真中PE滤光片人眼明视觉光谱权重标定方法
在基于ZEMAX软件的光学镜头MTF传函仿真测试场景中，PE滤光片常被用于模拟人眼明视觉光谱响应特性，而各波长权重的合理设定是保障仿真精度的核心环节。本文采用高斯函数拟合模型，构建PE滤光片人眼明视觉光谱波长权重标准化计算体系，明确计算原理、流程与关键参数，输出常用波段标定权重数值，可为目视光学系统设计、镜头成像质量仿真提供规范、可直接落地的参数依据。
2026-05-12
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精密光学镀膜技术解析：增透膜与高反膜的同源机理及核心差异
在精密光学制造领域，增透膜（AR）与高反膜（HR）作为两类核心光学薄膜，长期以来被行业普遍视为相互独立的技术体系。然而，从物理底层机理来看，二者并非截然不同的技术分支，而是基于同一光干涉原理的两种极端应用——核心差异不在于材料本身，而在于对反射光相位关系的调控方向不同。本文将从基础原理、技术解析、差异对比、行业认知及发展趋势等维度，以严谨的逻辑的视角，全面拆解增透膜与高反膜的内在关联与核心区别。
2026-05-12
