Mach–Zehnder干涉仪及其变形的原理
Mach–Zehnder干涉仪的基本原理在于通过巧妙的光路设计，将一束光分成两束，经过不同的路径后再重新汇合，从而产生干涉现象。这一现象为我们提供了一种精确测量光的特性以及相关物理量的方法。
然而，其魅力不仅在于原始的设计，更在于不断演变出的多种变形。其中一种变形在测试斜入射反射中的平面表面方面展现出了出色的能力。通过这种变形，我们能够更加精准地分析平面表面在斜入射情况下的反射特性，为相关的光学研究和应用提供了宝贵的数据支持。
另一种变形则是Jamin干涉仪。这种干涉仪将分束器和折叠镜组合成一个元件，形成了一种独特的结构。这一设计使得该装置具备了显著的优势，它非常坚固，能够在复杂的环境中保持稳定的性能。尤其值得一提的是，当引入元件的分离、偏心或小倾斜时，参考臂和测试臂会经历几乎相同的变化。这一特性使得Jamin干涉仪对元件的机械漂移不敏感，从而大大提高了测量的准确性和可靠性。
这些变形的出现并非偶然，而是科学家们不断探索和创新的结果。它们来源于《Handbook of Optical Systems, Volume 5 Metrology of Optical Components and Systems》《光学量测 81》《Handbook of Optical Systems 3》《光学量测·目录 #光学量测》等专业著作中的深入研究和实践积累。
在当今的科学研究和技术应用中，Mach–Zehnder干涉仪及其变形发挥着越来越重要的作用。无论是在光学元件的质量检测，还是在探索新的物理现象和光学原理方面，它们都为我们打开了一扇扇通向未知世界的窗户。
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散射矩阵层析成像技术：突破复杂介质限制的深层高分辨率光学成像新范式
近日，美国南加州大学ChiaWei(Wade)Hsu教授团队联合浙江大学研究人员，提出一种名为“散射矩阵层析成像（ScatteringMatrixTomography,SMT）”的创新光学成像技术，成功破解了复杂散射介质下深层成像的难题。相关研究成果发表于国际顶尖光学期刊《AdvancedPhotonics》。
2025-09-18
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运送一台EUV光刻机，比送宇航员上太空还难？背后藏着纳米光学的“生死考验”
在芯片产业的版图里，EUV光刻机是当之无愧的“皇冠明珠”——一台售价超1.5亿美元，全球每年仅能产出数十台，却支撑着7纳米以下先进制程芯片的生产。可很少有人知道，这台“精密神器”从荷兰ASML工厂出发，到抵达全球各地芯片厂的这段旅程，比护送宇航员进入太空还要严苛。毕竟，宇航员能在太空中适应微小重力波动，而EUV光刻机却连0.001G的震动都“承受不起”，根源就藏在那些中频误差＜0.3nm的光学镜片里。
2025-09-18
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3D打印技术如何驱动功能性光学器件制造革新及应用拓展
传统制造工艺正面临前所未有的技术瓶颈——先进光学器件对三维结构复杂性与多材料精准分布的需求，已超出切削、注塑等传统制造手段的加工范畴，成为制约光学技术在成像、传感、显示等领域突破的核心障碍。增材制造（又称3D打印）技术凭借“分层制造、逐层叠加”的核心原理，为功能性光学器件的创新研发提供了全新技术路径。从纳米级微透镜到宏观光学系统，从单一材料结构到多材料复合器件，3D打印技术正逐步打破传统光学制造的边界，推动光学器件产业进入“设计驱动制造”的全新发展阶段。
2025-09-18
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警惕“100倍变焦”宣传陷阱，光学与数字变焦的技术解析及选购指南
在选购相机、智能手机或摄像机等影像设备时，厂商所宣传的“50倍超级变焦”“100倍高清变焦”常成为核心卖点，易让消费者产生“高倍变焦即优质成像”的认知。然而实际使用中，部分高倍变焦功能的成像效果与预期存在显著差距，其根源在于“光学变焦”与“数字变焦”的本质差异被混淆。本文将从技术原理、核心区别、选购策略及实用技巧四方面，系统解析两种变焦技术，助力消费者避开选购陷阱，提升影像创作质量。
2025-09-18
